El jueves 9 de enero, las oficinas de Fintual en Santiago se convirtieron en el escenario del primer Runway Meetup en Chile, un evento que congregó a artistas, desarrolladores y entusiastas de la tecnología para explorar cómo la inteligencia artificial está transformando el arte y como Chilecreativo estuvimos presentes.

Alejandro Matamala, cofundador de Runway, y el artista chileno @nod.arte lideraron una charla que inspiró a los asistentes y mostró el impacto del arte generado con IA.

Runway es una de las plataformas de inteligencia artificial generativa más conocidas e importantes del mundo hoy en día, y como empresa están en una misión por “empoderar a creadores con herramientas de vanguardia”, buscando construir un puente entre la creatividad y la tecnología. 

Matamala compartió la historia y la misión de Runway. La plataforma nació hace 7 años en la Escuela de Arte de la Universidad de Nueva York, donde él y sus cofundadores, Cristóbal Valenzuela y Anastasis Germanidis, se unieron en un programa que combinaba arte y programación. Desde entonces, han trabajado para ofrecer herramientas accesibles que permitan a los artistas experimentar con IA como parte de sus procesos creativos.

«Desde la escuela de arte, haciendo proyectos creativos, nos llamó la atención cómo podemos usar esta misma tecnología como parte de nuestro proceso creativo a la hora de desarrollar proyectos.» – Alejandro Matamala, Co fundador Runway

En su charla, Alejandro destacó el Creative Partners Program, una iniciativa que ya cuenta con casi 1,000 creadores a nivel global. También subrayó la apertura del programa a todos los creadores los cuales pueden postularse directamente a través de un formulario en el sitio web de Runway.

«Cada vez que lanzamos algún nuevo producto, primero lo pasamos por el Creative Partners Program para validarlo y saber si es algo que en verdad necesitan.«

Por su parte, el artista visual chileno @nod.arte, con una trayectoria que incluye artes visuales, ingeniería e inteligencia artificial, ofreció una visión personal sobre cómo la IA ha influido en su obra. Desde que creó el primer video de inteligencia artificial en Chile hace dos años, @nod.arte no ha dejado de experimentar y compartir sus descubrimientos creativos.

«Todos los días creando algo. Este trabajo que les estoy mostrando son los últimos resultados con los últimos adelantos de Runway, y siento que por fin estoy logrando mucho mejor las temáticas que busco como artista visual.»

@nod.arte compartió ejemplos de cómo la IA le permite abordar preguntas personales y conceptuales.

“He experimentado con el óleo, con el acrílico, principalmente con la grabación, con lentes que distorsionan, y siempre busco experimentar. Hace dos años me convertí en el primer artista en hacer un video de inteligencia artificial en Chile y de ahí no paré, todos los días creando algo.»

El primer Runway Meetup en Chile dejó en claro que el país tiene una comunidad creativa ansiosa por aprovechar la IA como herramienta de expresión. La combinación de tecnología y creatividad, liderada por iniciativas como Runway, abre un horizonte de posibilidades para artistas, cineastas, narradores y a todo el talento chileno que, juzgando por lo visto en esta jornada, tenemos de sobra para armar un movimiento.